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深圳實驗(yan)室(shi)冷(leng)水機 應用(yong)(yong)領域： 化(hua)(hua)學(xue)、生(sheng)物(wu)領域：原(yuan)子吸(xi)收、ICP、旋(xuan)轉蒸(zheng)發(fa)儀、CCD、生(sheng)物(wu)發(fa)酵罐、化(hua)(hua)學(xue)反(fan)應器(qi)(qi)（合成器(qi)(qi)）等。 材(cai)(cai)料領域：電(dian)鏡、X射線(xian)(xian)衍射、X熒光(guang)、真空(kong)爐(lu)、鍍(du)膜機、ICP刻蝕、各種(zhong)(zhong)半(ban)導(dao)體(ti)設(she)備、疲勞(lao)試驗(yan)機、化(hua)(hua)學(xue)沉(chen)(chen)積(ji)系統、原(yuan)子沉(chen)(chen)積(ji)系統等等。 物(wu)理領域：激光(guang)器(qi)(qi)（各種(zhong)(zhong)型號(hao)）、磁(ci)(ci)場、各種(zhong)(zhong)分子泵(beng)以及(ji)包括材(cai)(cai)料領域使用(yong)(yong)的各種(zhong)(zhong)需水冷(leng)設(she)備。 醫療器(qi)(qi)械：核磁(ci)(ci)共(gong)(gong)振(zhen)、超導(dao)磁(ci)(ci)共(gong)(gong)振(zhen)、直線(xian)(xian)加速器(qi)(qi)、CT、X光(guang)機 廣泛(fan)應用(yong)(yong)

真空鍍(du)膜機(ji)(ji)配套冷(leng)水(shui)機(ji)(ji):根(gen)據鍍(du)膜機(ji)(ji)種類和加工產品(pin)不(bu)一樣(yang)，對冷(leng)水(shui)的要求(qiu)(qiu)也會不(bu)一樣(yang)，普通材料蒸發選用(yong)冷(leng)卻(que)水(shui)塔(ta)水(shui)溫在30℃左右(you)的就可(ke)以(yi)使(shi)用(yong)，如果涉及硬質件件溫度會要求(qiu)(qiu)在15-25℃。就必須要使(shi)用(yong)上(shang)冷(leng)水(shui)機(ji)(ji)這一塊

旋(xuan)轉蒸發儀冷(leng)(leng)(leng)(leng)卻循環水(shui)機是一(yi)種恒溫(wen)，恒壓，恒流的(de)強制型制冷(leng)(leng)(leng)(leng)設(she)備，廣泛應(ying)用于工業和科研(yan)兩(liang)大板塊的(de)應(ying)用，通常(chang)也(ye)叫冷(leng)(leng)(leng)(leng)水(shui)機，小型冷(leng)(leng)(leng)(leng)水(shui)機，實驗室冷(leng)(leng)(leng)(leng)水(shui)機，冰(bing)水(shui)機，工業冷(leng)(leng)(leng)(leng)水(shui)機，等多種叫法，按溫(wen)度分類可(ke)以(yi)分為：常(chang)溫(wen)型（5℃~35℃）， 低溫(wen)型（-5℃~-40℃）應(ying)用工藝不一(yi)樣(yang)，使用溫(wen)度不一(yi)樣(yang)。

小型冷水機主要針對實驗(yan)儀器、應用在化(hua)學(xue)，物理，光學(xue)等實驗(yan)室儀器上配套(tao)，如：化(hua)學(xue)、生物領域：原子吸收、ICP、旋轉(zhuan)蒸發儀、CCD、生物發酵罐、化(hua)學(xue)反應器（合成器）等。

生(sheng)物反應器冷卻循環水(shui)(shui)機是一種能提(ti)供恒(heng)溫、恒(heng)流、恒(heng)壓的(de)冷卻水(shui)(shui)設(she)備(bei)。廣(guang)泛(fan)應用于物理，材料，化學，生(sheng)物，醫學等(deng)學院(yuan)和科研(yan)機構及工業需要冷源(yuan)場所。

核磁共振(zhen)冷水(shui)機(ji)是一(yi)種(zhong)(zhong)能提供恒(heng)溫(wen)、恒(heng)流、恒(heng)壓的(de)冷卻水(shui)設(she)(she)備(bei)(bei)。 應用領域： 化學(xue)、生(sheng)物(wu)領域：原(yuan)子(zi)吸收、ICP、旋轉(zhuan)蒸發儀、CCD、生(sheng)物(wu)發酵罐、化學(xue)反(fan)應器（合(he)成(cheng)器）等。 材(cai)料(liao)領域：電鏡、X射線衍射、X熒光、真空爐、鍍膜機(ji)、ICP刻蝕、各(ge)(ge)種(zhong)(zhong)半導(dao)體(ti)設(she)(she)備(bei)(bei)、疲(pi)勞試驗機(ji)、化學(xue)沉積系統、原(yuan)子(zi)沉積系統等等。 物(wu)理領域：激(ji)光器（各(ge)(ge)種(zhong)(zhong)型號）、磁場、各(ge)(ge)種(zhong)(zhong)分子(zi)泵以及包(bao)括材(cai)料(liao)領域使用的(de)各(ge)(ge)種(zhong)(zhong)需水(shui)冷設(she)(she)備(bei)(bei)。

特定原(yuan)子(zi)吸收儀(yi)冷卻(que)(que)循環水機DW-LS-1200W，此(ci)款機型(xing)專(zhuan)為石墨爐原(yuan)子(zi)吸收光譜(pu)儀(yi)。對原(yuan)子(zi)吸收光譜(pu)儀(yi)石墨爐進行冷卻(que)(que)。我們機器(qi)進出水口為客(ke)(ke)戶(hu)配備6mm-10mm快速接(jie)頭及水管。當機器(qi)到客(ke)(ke)戶(hu)現場后，客(ke)(ke)戶(hu)可以很簡單的(de)完成安裝(zhuang)。

石墨(mo)(mo)爐原子吸收(shou)光譜儀冷卻循環水(shui)機(ji)DW-LS-1200WY DW-LS-1200WY此款機(ji)型專為石墨(mo)(mo)爐原子吸收(shou)光譜儀。對原子吸收(shou)光譜儀石墨(mo)(mo)爐進(jin)(jin)行冷卻。我們機(ji)器進(jin)(jin)出水(shui)口為客(ke)戶(hu)配(pei)備6mm-10mm快速接頭及(ji)水(shui)管(guan)。當(dang)機(ji)器到客(ke)戶(hu)現場(chang)后，客(ke)戶(hu)可以很簡單的完成安(an)裝。1、采用(yong)微電腦溫度控制系(xi)統(tong)，.